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Wir untersuchten eine mit Stickstoff dotierte Nanokohlenstofffilmelektrode mit einer Stickstoffkonzentration von weniger als 10,9 Atom-%, die durch das Unbalanced-Magnetron-Sputterverfahren (UBM) hergestellt wurde.Der sp(3)-Gehalt im stickstoffdotierten UBM-Sputter-Nanokohlenstofffilm (N-UBM-Film) steigt mit zunehmender Stickstoffkonzentration leicht an.Mit zunehmender Stickstoffkonzentration nimmt die stickstoffhaltige graphitartige Bindung ab und die pyridinartige Bindung zu.Der N-UBM-Film hat eine sehr glatte Oberfläche mit einer durchschnittlichen Rauheit von 0,1 bis 0,3 nm, die nahezu unabhängig von der Stickstoffkonzentration ist.Die N-UBM-Filmelektrode zeigt aufgrund ihres leichten Anstiegs des sp(3)-Gehalts ein breiteres Potentialfenster (4,1 V) als eine reine UBM-Filmelektrode (3,9 V).Die elektrokatalytische Aktivität nahm mit zunehmender Stickstoffkonzentration zu, was darauf hindeutet, dass die Elektroaktivität maximal ist, wenn die Stickstoffkonzentration etwa 10,9 Atom-% beträgt, was durch die Peaktrennung von Fe(CN)6(4-) bestätigt wird.Die Wasserstoffperoxid (H2O2)-Reduktionspotentiale an der N-UBM-Filmelektrode verschoben sich um etwa 0,1 V, und der Spitzenstrom von H2O2 erhöhte sich um etwa das Vierfache.